Caractérisation et nettoyage du silicium : caractérisation physico-chimique et nettoyage par voie humide

Caractérisation et nettoyage du silicium : caractérisation physico-chimique et nettoyage par voie humide
67,00€

Vendu et expédié par : Librinter

État : Neuf


en stock vendeur

Livraison 0.00€ à domicile dès le 00/00/00


Paiement 100%
sécurisé
Retour possible du
produit
Vendeur sélectionné
par Cultura

Coups de cœur Cultura

Tous les passeurs de culture peuvent partager leurs découvertes !
Tu as aimé ce produit ? Partage dès maintenant ton coup de coeur :

loader
loader
loader
loader
loader
loader
loader
loader

description

descriptif du fournisseur
Depuis la réalisation du premier circuit intégré il y a plus de quarante ans, les étapes de fabrication en micro-électronique sont restées les mêmes. Les procédés ont cependant considérablement évolué, dans l'objectif de diminuer toutes les dimensions, pour intégrer toujours plus. Des techniques nouvelles et complexes se cachent aujourd'hui derrière un procédé de fabrication. Le présent ouvrage passe en revue l'ensemble des étapes élémentaires : nettoyage, dépôt métallique, dépôt de couche diélectrique, oxydation, dopage, gravure, lithographie. Sont également présentées les techniques de caractérisation, indispensables pour juger de la qualité des procédés. Chaque étape fait l'objet d'un chapitre : le procédé, les équipements et la physique des techniques y sont détaillés.
 
Caractérisation et nettoyage du silicium : caractérisation physico-chimique et nettoyage par voie humide

Caractérisation et nettoyage du silicium : caractérisation physico-chimique et nettoyage par voie humide

Annie Baudrant

On vous recommande avec votre achat
Caractérisation et nettoyage du silicium : caractérisation physico-chimique et nettoyage par voie humide

Caractérisation et nettoyage du silicium : caractérisation physico-chimique et nettoyage par voie humide

67,00
+